应用领域四半导体掺杂源-江西鸿强科技有限公司

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江西鸿强科技有限公司2020年度固体废物污染环境防治信息公告

三氯化硼BCl3的特性
应用领域四半导体掺杂源
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应用领域四半导体掺杂源

发布时间：2017-01-20发布者：[author]浏览次数：0

主要用于半导体器件和集成电路的扩散、掺杂、刻蚀、离子注入，在离子植入中用作硼源，在半导体应用中提供全金属分析。硅的P型扩散、离子注入、金属的等离子体刻蚀。高纯硼和有机硼的制取，掺杂、蚀刻、光纤维的制造、扩散。
3.用于医药工业的中间体；可用于有机合成的优良催化剂，如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等；铸镁及合金时的防氧化剂；是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。

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